導(dǎo)航
產(chǎn)品詳情
材質(zhì):Mo1
類型:平面靶材,旋轉(zhuǎn)靶材
形狀:管狀,方形,圓形,長條形
純度:99.95%,99.97%,99.98%
常規(guī)密度:10g/cm3~10.15 g/cm3
高密度:>10.15g/cm3
尺寸:按圖紙加工,滿足精度要求。
產(chǎn)品特性: 高密度,高純度,細(xì)晶粒,致密性好
應(yīng)用領(lǐng)域:濺射靶材用于磁控濺射鍍膜,濺射鍍膜是物理氣相沉積(PVD)主要方法之一,它用于在表面沉積具有某種特殊功能的薄膜。濺射靶材的主要應(yīng)用于平板顯示鍍膜、半導(dǎo)體鍍膜,玻璃鍍膜、太陽能電池鍍膜、裝飾鍍膜等行業(yè)。
工藝流程:
平面靶材:鉬粉-壓制-燒結(jié)-軋制-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝
小型旋轉(zhuǎn)靶材:鉬粉-壓制-燒結(jié)-鍛造-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝
大型旋轉(zhuǎn)靶材:鉬粉-壓制-燒結(jié)-深加工-表面處理-成品-檢驗-包裝
HIP工藝生產(chǎn)靶材的優(yōu)勢:
--密度更高
--晶粒組織更細(xì)小均勻
--提高機(jī)械性能
--消除內(nèi)部氣孔
--提高切削加工表面質(zhì)量
洛陽辰駿鎢鉬科技有限公司可生產(chǎn)供應(yīng)以下各種形狀的高質(zhì)量靶材:
鎢靶,鉬靶,鉬鈮合金靶材,鈮靶,鉻靶,鈦靶,鉭靶